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本发明公开了一种电化学合成五氧化二氮用的隔膜及其制备方法。该隔膜由多孔聚四氟乙烯基膜及负载的高氟化离子交换树脂和SiO2的形成的膜再与膨体聚四氟乙烯膜复合而成，厚度为80～120μm。其制备过程：多孔聚四氟乙烯基膜在浓硝酸中处理；经处理的基...
该专利属于天津大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津大学授权不得商用。

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