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本实用新型提供一种化学机械研磨设备，用于研磨晶圆，包括：转台，其上方固定放置所述晶圆，所述晶圆的待研磨面朝上；研磨垫，其研磨面朝下；研磨头，其下方固定所述研磨垫，能够带动所述研磨垫旋转；研磨液供应管，设置于研磨头或研磨垫上。本实用新型所述化...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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