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提供了包含低Tg组分的新型光致抗蚀剂且其特别适用于离子注入光刻应用。对于下层的无机表面例如SiON、氧化硅、氮化硅和其它无机表面，本发明优选的光致抗蚀剂能显示出良好的粘结能力。...
该专利属于罗门哈斯电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料有限公司授权不得商用。

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