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一种低辐射玻璃制造技术
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文档序号:6695195
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本发明公开了一种低辐射玻璃,从下往上依次包括玻璃基底、第一介质层、第一阻挡层、过渡层、金属层和第二阻挡层,作为优化还可在第二阻挡层上镀第二介质层,过渡层促进金属层的生长使其尽快长成连续的结构,使得玻璃可有高的红外反射率且有高的可见光透过率,...
该专利属于华中科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过华中科技大学授权不得商用。
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