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本实用新型涉及一种可避免填料沉积的内循环式浸胶胶盆，包括胶盆腔，胶盆腔的底部设有进料口，胶盆腔的盆沿处设有出料口，其特征是：所述的胶盆腔底部还设有底部出料口，胶盆腔底部安装有筛板，筛板的表面设有进料小孔，在底部出料口的上方筛板的表面设有筛板...
该专利属于台光电子材料(昆山)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台光电子材料(昆山)有限公司授权不得商用。

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