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本发明涉及一种单面抛光的双面无蜡抛光工艺，将硅片放于游轮中，采用抛光盘对其双面进行粗抛，粗抛转速为15-25rpm，抛光压力为0.2-0.4Mpa；对粗抛后的硅片进行单面精抛，精抛转速为10-20rpm，抛光压力为0.3-0.5Mpa，精抛...该专利属于江苏南晶红外光学仪器有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏南晶红外光学仪器有限公司授权不得商用。
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