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公开了一种斑纹减少装置和斑纹减少掩模。斑纹减少装置(1)包括：辐射路径；以及布置在辐射路径内的掩模(7)，掩模(7)包括被配置成在掩模上形成随时间变化的图案的电可控单元的阵列。斑纹减少掩模(7)包括：第一线性阵列，其包括被布置成改变入射辐射...
该专利属于西福尔德高等学院所有，仅供学习研究参考，未经过西福尔德高等学院授权不得商用。

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