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本发明公开的一种服装展示素材的抠图方法，首先模特图像拍摄及预处理，得到预处理后的着装模特图像；其次对预处理后的着装模特图像进行二值化处理；然后对二值化着装模特图像进行掩膜处理，得到服装图像掩膜；最后根据服装图像掩膜，对预处理后的着装模特图像...
该专利属于西安工程大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安工程大学授权不得商用。

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