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本发明公开了一种洞体较小的岩溶地基简易处理方法，对于在基底下埋深超过１ｍ的洞隙不做处理，只需将基础平面尺寸加大２０～２５％，基础基底压力控制在２００ｋＰａ～１５０ｋＰａ。本发明具有施工方法简单，节省时间和成本的优点。...
该专利属于贵阳铝镁设计研究院所有，仅供学习研究参考，未经过贵阳铝镁设计研究院授权不得商用。

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