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本发明提供一种包括被覆层覆盖部分的装置的制造方法和被覆层除去装置。分别在第一激光处理部以及第二激光处理部中，根据通过每个电容器元件（２ａ、２ｂ、２ｃ）的图像处理算出的偏离量和基于之前的电容器元件（２ａ、２ｂ、２ｃ）的处理的承载条（１１）的位...
该专利属于三洋电机株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三洋电机株式会社授权不得商用。

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