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本实用新型公开了一种真空溅射镀膜设备，涉及真空溅射镀膜设备技术领域，特别是涉及对真空溅射镀膜设备中连接管的结构改造。包括真空测量装置、箱体、真空腔体，箱体内包裹有真空腔体，其特征在于：还包括连接管，所述连接管的一端通过箱体与真空腔体贯通连接...
该专利属于赫得纳米科技（昆山）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过赫得纳米科技（昆山）有限公司授权不得商用。

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