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本发明公开了一种用较少清洗液就能清洗干净有机硅光导体的清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽外侧设置有摆动气缸，清洗槽内设置有Z形摆动架，摆动架的一端从清洗槽中伸出并与清洗槽外侧的摆动气缸的活塞杆相连，位于清洗槽内的摆动架上设置有清洗座，清洗座上...
该专利属于江苏港星方能超声洗净科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏港星方能超声洗净科技有限公司授权不得商用。

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