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自供电近场光刻系统１００包括三个主要部件，即：包括放射性材料（例如，放射性同位素１１２）的薄膜或发射极衬底１１０、承载能量可改性层１２２（例如，光致抗蚀剂）的目标衬底１２０、以及位于发射极衬底和目标衬底之间且在发射极衬底上制造并被限定在发射...
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