专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
日产化学工业株式会社
>
低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法以及防反射材料技术
>技术资料下载
下载低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法以及防反射材料的技术资料
文档序号:5474421
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供可在较低温度下固化而形成高硬度的耐擦伤性良好的具有低折射率的被膜的被膜形成用涂布及其制造方法,以及使用该被膜的防反射材料。低折射率被膜形成用涂布液的特征在于,含有含氟有机基团与硅原子结合的聚硅氧烷(A)和碳数3~12的含氟胺化合物...
该专利属于日产化学工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日产化学工业株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。