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本发明公开了使用直流电源的用于基于等离子体的溅射沉积的设备和方法。在一个实施方案中，通过将多个电极和电流源连接而产生等离子体，周期性反转施加在处理室中多个电极的每一个上的电压的极性，使得至少一个电极将材料溅射在基底上。调节施加在多个电极的至...
该专利属于先进能源工业公司所有，仅供学习研究参考，未经过先进能源工业公司授权不得商用。

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