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描述了用于成像以及化学上识别违禁物的系统和方法。在一方面，提供一种用于定位以及识别对象上的违禁物的方法。该方法包括利用多个成像传感器扫描对象以收集辐射测量数据（３０２），利用痕迹检测传感器（３０４）来从位于对象上和／或位于对象附近的化学蒸汽...
该专利属于莫弗探测公司所有，仅供学习研究参考，未经过莫弗探测公司授权不得商用。

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