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本发明提供一种即使在薄膜的基材具有紫外线吸收能力的情况下也能够高效地制造出精度高的纳米压印薄膜的方法。本发明的纳米压印薄膜的制造方法是一种形成在基材上的、在表面具有纳米尺寸的凹凸的纳米压印薄膜的制造方法，上述制造方法包括：第一工序，在包含紫...
该专利属于夏普株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过夏普株式会社授权不得商用。

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