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在此公开一种使用超声波的清洗设备。该清洗设备用于从晶片上分离污 染物，所述设备包括：其中容纳有振动器的壳体；以及杆，该杆连接到所述 振动器的表面，以使由所述振动器产生的超声波传播到施加在所述晶片的上 表面上的清洗溶液。所述振动器包括压电装置...
该专利属于韩国机械研究院所有，仅供学习研究参考，未经过韩国机械研究院授权不得商用。

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