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本发明涉及一种用于通过低温固化制备具有高强度、耐磨性和优异隔 离性能的优异保护膜的组合物、由该组合物制备的保护膜、包括该保护膜 的基板以及包括该基板的元件或器件。该组合物包含有机硅氧烷聚合物a)、 光产碱剂b)和有机溶剂c)。...
该专利属于LG化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过LG化学株式会社授权不得商用。

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