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本发明涉及提供可用于将材料溅射沉积在至少一个物品上并在物品上 形成涂层的设备和方法。这里描述的新型磁控管可以在较高的功率下实现 溅射沉积速率的增大且不引起涂层的破坏。这可通过在磁控管中改善冷却 并使用相对高的磁场，同时通过使电流的增大速率快...
该专利属于梯尔镀层有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过梯尔镀层有限公司授权不得商用。

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