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背侧浸没式光刻制造技术
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文档序号:5405341
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本公开涉及在施加到衬底(210)的辐射敏感层中形成潜像(latent image),该衬底对曝光波长的辐射是透明的或者是能透射的。具体地,本公开涉及所谓的背侧光刻,其中曝光系统的最后的透镜(101)被定位以通过透明衬底的第一侧(110)投射...
该专利属于麦克罗尼克激光系统公司所有,仅供学习研究参考,未经过麦克罗尼克激光系统公司授权不得商用。
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