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一种用于控制供应给工艺的冷却剂的温度的方法，例如半导体工艺。该方法用于将冷却剂冷却至预定温度、将冷却剂控制在预定温度处以及向半导体工艺传递冷却剂。该方法包括反馈和前馈控制算法以便在稳定状态工况下控制温度达到大约±０．１℃以内而在最大热加载和...
该专利属于埃地沃兹真空系统有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过埃地沃兹真空系统有限公司授权不得商用。

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