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本发明提供用于控制光调制装置的两个层之间的腔的深度的方法和设备。一种制造光调制装置的方法包括：提供衬底；在所述衬底的至少一部分上方形成牺牲层；在所述牺牲层的至少一部分上方形成反射层；以及在所述衬底上方形成一个或一个以上挠曲控制器，所述挠曲控...
该专利属于高通MEMS科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过高通MEMS科技公司授权不得商用。

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