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光/热可写纳米涂层制造技术
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文档序号:5386439
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提出一种用于在表面上刻写彩色铭文的新型方法以及所使用的刻写系统,其特征在于每个都小于800nm的许多薄层都被施加于材料(1、2)之上或之内,其中层或层界面至少部分反射电磁波(3),厚度小于700nm的透明层(4)被设置于该反射层之上和/或之...
该专利属于盟迪股份公司所有,仅供学习研究参考,未经过盟迪股份公司授权不得商用。
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