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本发明公开了一种用于层转移工艺的可重复使用的硅衬底装置。该装置具有可重复使用的衬底，其具有表面区域、解理区域、以及总厚度的材料。总厚度的材料比待去除的第一厚度的材料大至少Ｎ倍。在一种特定的实施方式中，待去除的第一厚度的材料位于表面区域和解理...
该专利属于硅源公司所有，仅供学习研究参考，未经过硅源公司授权不得商用。

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