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本实用新型的一种等离子体刻蚀反应器介质窗，包括：本体、气体流入通孔和温度测量装置放置孔，所述气体流入通孔贯通于所述本体面向反应腔内部的面至与其相对的另一面之间，所述温度测量装置放置孔的开口位于所述本体上垂直于其面向反应腔内部的面的侧面上，其...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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