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本发明公开一种可降低抛光表面粗糙度、清洗方便、对设备无腐蚀的核／壳型复合纳米磨料硅片抛光液，是由核／壳型复合纳米磨料、活性剂、分散剂、螯合剂、ｐＨ调节剂及纯水组成，ｐＨ值为９．０～１２．０，各原料的质量百分比为：核／壳型复合纳米磨料５％～４...该专利属于大连三达奥克化学股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大连三达奥克化学股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种可降低抛光表面粗糙度、清洗方便、对设备无腐蚀的核／壳型复合纳米磨料硅片抛光液，是由核／壳型复合纳米磨料、活性剂、分散剂、螯合剂、ｐＨ调节剂及纯水组成，ｐＨ值为９．０～１２．０，各原料的质量百分比为：核／壳型复合纳米磨料５％～４...