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本实用新型的目的是为解决辐照装置辐照高密度产品时不均匀度过高并且造成剂量浪费，以及不能对吸收剂量不均匀度要求较高的产品进行辐照的问题，提供了一种辐照装置的辐照容器内箱换位装置，包括输送装置、位于所述输送装置上辐照箱，其特征在于：还包括内箱、...
该专利属于北京鸿仪四方辐射技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京鸿仪四方辐射技术有限公司授权不得商用。

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