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本发明涉及用于镶嵌式垂直磁记录(PMR)写入装置的双图案化硬掩膜。本主题公开内容的各种实施例提供双图案化工艺，该工艺使用两个图案化步骤来生产具有带尖锐拐角的鼻形状的写入结构。在一个实施例中，提供一种在包括衬底和位于衬底上的绝缘层的多层结构上...
该专利属于西部数据（弗里蒙特）公司所有，仅供学习研究参考，未经过西部数据（弗里蒙特）公司授权不得商用。

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