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本发明公开了一种化学机械抛光液，其用于抛光氮化硅材料。该抛光液包含磨料颗粒、季胺化合物、一种氮化硅抛光加速剂和水。该氮化硅加速剂选自一种阴离子表面活性剂。本发明的化学机械抛光液能够有效地去除氮化硅材料，并提供氮化硅材料对氧化硅材料的去除速率...
该专利属于安集微电子（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子（上海）有限公司授权不得商用。

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