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本发明公开了一种金属线形成方法，预先建立蚀刻偏差与掩膜版图案密度之间的幂指数关系，该方法包括：Ａ、检测当前的掩膜版图案密度，并根据所建立的蚀刻偏差与掩膜版图案密度之间的幂指数关系计算当前的蚀刻偏差；Ｂ、如果当前的蚀刻偏差小于预先设置的阈值范...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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