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本发明公开了一种高分子滤膜的亲水性改性方法，其特征在于其包括下述步骤：将高分子滤膜浸渍在含有水溶性交联剂和过硫酸盐的水溶液中，紫外光辐照，取出即得改性后的高分子滤膜；所述的高分子滤膜为含有Ｃ－Ｈ键的高分子滤膜。本发明的方法克服了现有的高分子...
该专利属于中国科学院上海应用物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海应用物理研究所授权不得商用。

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