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提供在晶体质中不具有裂纹且兼具高硬度和优异的耐磨性的硬质被膜层及其形成方法。覆盖基材（２）的晶体质的硬质被膜层（３）是利用ＰＶＤ法形成的，并且，该硬质被膜层以Ｓｉ和Ｃ为必要成分，以元素Ｍ［选自３Ａ族元素、４Ａ族元素、５Ａ族元素、６Ａ族元素、...该专利属于株式会社神户制钢所;伊斯卡有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社神户制钢所;伊斯卡有限公司授权不得商用。
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