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描述了组合的等离子体增强沉积技术，该技术包括指定基底的多个区域，向多个区域的至少第一个区域提供前体，以及向第一个区域提供等离子体以在第一个区域上沉积使用第一种前体形成的第一种材料，其中所述第一种材料与基底的第二个区域上形成的第二种材料不同。...
该专利属于分子间公司所有，仅供学习研究参考，未经过分子间公司授权不得商用。

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