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含碳物种的冷植入技术制造技术
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文档序号:4908247
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本发明揭示一种含碳物种的冷植入技术。在一例示性实施例中,此技术可以以一种离子注入装置来实现。离子注入装置包括冷却设备以及离子注入机。冷却设备将目标材料冷却至预定温度。离子注入机在预定温度下将含碳物种植入目标材料,以改善张力和非晶化的至少其中...
该专利属于瓦里安半导体设备公司所有,仅供学习研究参考,未经过瓦里安半导体设备公司授权不得商用。
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