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本发明公开了一种钕铁硼磁体的制备工艺及表面多孔层预处理工艺，包括梯度孔隙结构构建，通过激光蚀刻表面微孔阵列或化学蚀刻法或激光‑化学复合蚀刻在烧结钕铁硼磁体表面构建梯度孔隙结构；晶界相改性，通过添加Al‑Cu‑Ti合金粉形成Nd(Al,Cu)...
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