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一种p型氧化镓薄膜的制备方法技术
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文档序号:46593772
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本发明属于半导体领域,本发明公开了一种p型氧化镓薄膜的制备方法,包括以下步骤:S1、在衬底上生长预处理层;S2、将生长预处理层后的衬底置于保护气体氛围中,加热升温至处理温度;S3、在氮等离子体氛围中,用一维线条状激光对衬底进行辐照;S4、在...
该专利属于泉州师范学院所有,仅供学习研究参考,未经过泉州师范学院授权不得商用。
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