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本发明涉及薄膜天线领域，具体涉及一种考虑折痕因素的薄膜天线形态分析方法及系统；基于折叠方案构建折叠膜结构的有限元模型；所述有限元模型包括折痕单元有限元方程、索膜单元及结构有限元方程和折痕单元的边界关系处理；基于有限元模型设计折叠膜结构的优化...
该专利属于西安电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安电子科技大学授权不得商用。

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