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本技术公开了发声单元，包括盆架、振动组件、磁路组件和两个支撑部件，振动组件包括振膜组件和两个音圈；磁路组件包括轭铁和分别设于轭铁上的中央结构件、中心磁结构与边磁结构，中心磁结构为并排设置的两组，边磁结构围绕中心磁结构设置，边磁结构包括相向设...
该专利属于深圳市维仕声学有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市维仕声学有限公司授权不得商用。

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