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本发明提供了一种含氢氟酸的高性能刻蚀液及其制备方法和应用。通过在氢氟酸原料基础上，加入缓冲剂、络合剂等，以有机硅表面活性剂、有机膦酸酯、杂环化合物和氨基化合物等组成功能组合物；通过各组分间的协同作用，显著提高了刻蚀液的刻蚀速率、选择性、稳定...
该专利属于晶瑞电子材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过晶瑞电子材料股份有限公司授权不得商用。

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