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本发明涉及纳米材料制备技术领域，具体为一种基于CSTR连续制备POSS的方法及装置，至少包括以下步骤：进行原料配制获得混合料；混合料进入反应模块依次进行水解反应、缩聚反应获得产物；产物进入分离单元进行分离、纯化获得POSS产品并进行物料循环...
该专利属于深圳先进高分子材料研究院所有，仅供学习研究参考，未经过深圳先进高分子材料研究院授权不得商用。

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