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本发明涉及光信息存储技术领域，尤其涉及一种基于蓝晒工艺的深紫外灰度掩膜版的制备方法，包括如下步骤：将蓝晒水溶液和明胶水溶液按体积比为2:5～4:5的比例混合，得到蓝晒感光剂溶液；采用滴涂法或旋涂法，使蓝晒感光剂溶液均匀覆盖于石英基板表面，利...
该专利属于南开大学所有，仅供学习研究参考，未经过南开大学授权不得商用。

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