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本公开公开了一种掩膜版的清洗方法、装置及计算机设备，属于半导体技术领域。该掩膜版的清洗方法包括：确定清洗间隔片数和报废清洗次数，清洗间隔片数指的是在相邻两次清洗作业的间隔内，掩膜版的光刻作业次数，报废清洗次数为掩膜版在报废之前所能够进行的清...
该专利属于京东方华灿光电（浙江）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方华灿光电（浙江）有限公司授权不得商用。

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