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本发明涉及一种晶片电镀设备，包括：电镀腔室，其内部设置电镀液，其底部设置第一进液口，其底部边缘设置第二进液口；旋转组件，其用于夹持并旋转晶片；高电阻控制板，其边缘设置有电解液入口和电解液出口，电解液入口和电解液出口分别于第二进液口连通，高电...
该专利属于宁波普莱特半导体设备有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过宁波普莱特半导体设备有限责任公司授权不得商用。

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