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本发明的目的在于提供一种基于热回流工艺与多层级沉积协同优化波导的制备方法，包括：在衬底上沉积二氧化硅下包层，再沉积非晶硅硬掩膜；光刻形成图案，刻蚀非晶硅、二氧化硅，形成沟槽，去除非晶硅硬掩膜，高温回流使沟槽侧壁光滑；沉积第一层氮化硅，化学机...
该专利属于陕西电子芯业时代科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过陕西电子芯业时代科技有限公司授权不得商用。

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