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本申请提供的一种等离子清洗腔和清洗设备，涉及半导体设备技术领域。该等离子清洗腔包括上盖、腔体、放置台、第一加热盘、第二加热盘和导热件。腔体具有开口，上盖与腔体连接，以封闭开口。放置台用于承载晶圆；放置台设于腔体内。第一加热盘设于腔体内，且位...
该专利属于甬矽半导体（宁波）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过甬矽半导体（宁波）有限公司授权不得商用。

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