专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
新唐科技日本株式会社
>
半导体装置制造方法及图纸
>技术资料下载
下载半导体装置的技术资料
文档序号:46522356
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种包括纵型MOS晶体管(10)的半导体装置(1),纵型MOS晶体管(10)具有:从低浓度杂质层(33)的上表面贯通体区(18)而形成的在第一方向上延伸的多个第一沟槽(17);以及从低浓度杂质层(33)的上表面贯通体区(18)而被形成为比多...
该专利属于新唐科技日本株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过新唐科技日本株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。