温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本技术提供了一种边缘环组件、一种工艺腔室及一种半导体器件的加工设备。所述边缘环组件包括第一边缘环。所述第一边缘环放置于抽气环的边缘之上，并位于加热盘及喷淋盘之间，用于缩小所述加热盘与所述喷淋盘之间等离子体的边缘空间，和/或减小所述边缘空间的...
该专利属于拓荆科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆科技（上海）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。