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本发明公开了一种基于正交条形结构的45°偏光膜及其制备方法，通过将PVA层分割为相互垂直的条形区域，每个区域的偏振轴固定为+45°或‑45°，相邻区域偏振方向正交，实现光的分区控制；结合铝纳米棒掺杂和微孔无偏振区设计，提升偏振效率和抗漏光性...该专利属于北京三弟奥科技术开发有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京三弟奥科技术开发有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种基于正交条形结构的45°偏光膜及其制备方法，通过将PVA层分割为相互垂直的条形区域，每个区域的偏振轴固定为+45°或‑45°，相邻区域偏振方向正交，实现光的分区控制；结合铝纳米棒掺杂和微孔无偏振区设计，提升偏振效率和抗漏光性...