温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及光学元件与半导体材料的抛光加工技术领域，具体提供了一种抛光方法及系统，该方法包括：将待抛光元件置于预设位置，按照抛光路径对待抛光元件进行抛光，其中，抛光路径是根据待抛光元件的表面结构参数确定的；在抛光过程中，获取抛光设备的位置信息...
该专利属于航勒普科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过航勒普科技（苏州）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。